IREIS, au travers du groupe HEF, conçoit et fabrique ses propres équipements de dépôt, renforçant ainsi sa maitrise des procédés mis en œuvre mais aussi sa capacité et réactivité vis-à-vis des besoins industriels. Le groupe HEF est ainsi à même de concevoir des équipements hors normes pour répondre à des moyens industriels les plus particuliers. A côté du parc de machines de dépôts sous vide standards (plus de 150) IREIS abrite les équipements de grandes dimensions pour le traitement de pièces dont au moins une dimension est comprise entre un et trois mètres environ. Ces équipements sont particulièrement destinés à la réalisation de pièces unique tels que des démonstrateurs ou prototypes ainsi que des pré-séries à l’échelle pilote après une des projets R&D.
Two equipments with heights of plasma sources of 2,8 m and 1,1 m of diameter are available for the treatment of parts in the domain of energetics, aeronautics, chemistry, mechanics, steel industry, plastic processing. Various processes are integrated : magnetron cathodic pulverization, PECVD and the deposit by arc.
The HPL machine is constituted by three online modules with a changing airlock for the plane surface treatments around 1 m². Equipped with two deposit sources (PVD and PECVD) it is particularly well adapted to realize multilayers for optical, electromagnetic applications on plane surfaces.
The TSD 2200 machine is equipped with magnetron cathodes centered inside the vacuum enclosure in such a way that it is possible to treat large hollow pieces. The height of treatment is around 1,7 m.