IREIS, au travers du groupe HEF, conçoit et fabrique ses propres équipements de dépôt, renforçant ainsi sa maitrise des procédés mis en œuvre mais aussi sa capacité et sa réactivité vis-à-vis des besoins industriels. Le groupe HEF est ainsi à même de concevoir des équipements hors normes pour répondre aux besoins industriels les plus particuliers. A côté du parc de machines de dépôts sous vide standards (plus de 150) IREIS abrite les équipements de grandes dimensions pour le traitement de pièces dont au moins une dimension est comprise entre un et trois mètres environ. Ces équipements sont particulièrement destinés à la réalisation de pièces uniques tels que des démonstrateurs ou prototypes ainsi que des pré-séries à l’échelle pilote après un projet de R&D.
Deux équipements avec des sources plasma de 2,8 m de hauteur et de 1,1 mètre de diamètre sont disponibles pour le traitement de pièces destinées aux domaines de l’énergie, l’aéronautique, la chimie, la mécanique, la sidérurgie, la plasturgie. Divers procédés sont intégrés : pulvérisation cathodique magnétron, PECVD et les dépôts par arc.
La machine HPL est constituée de trois modules en ligne dont un sas de chargement pour le traitement de surfaces planes de l’ordre de 1 m². Equipée de deux sources de dépôt (PVD et PECVD), elle est particulièrement bien adaptée pour réaliser des multicouches pour des applications optiques, électromagnétiques,… sur des pièces planes.
La machine TSD 2200 est équipée de cathodes magnétron centrées à l’intérieur de l’enceinte sous vide de telle sorte qu’il est possible de traiter des pièces creuses de grandes dimensions. La hauteur de traitement est d’environ 1,7 m.